|
포토마스크는 컴퓨터를
통하여 설계한 반도체 회로가
반도체 웨이퍼 위에 전사되기
전에 최초로 구현되는 반도체
부품입니다. 이 원리는 사진을
찍는 것과 같아서 사진의 경우
필름이 있으면 수천장의 같은
사진을 만들 수 있는 것처럼 포토마스크를
이용하여 수많은 웨이퍼 위에
반도체 회로를 전사해 냅니다.
사진을 찍을 때 필름의 종류나
품질에 따라 사진의 품질이 결정되는
것처럼 포토마스크의 품질 또한
반도체 칩이나 LCD 패널의 품질을
좌우하게 됩니다.
다시 말해
포토마스크는 반도체 칩이나 LCD
등을 만들기 위한 사진 원판을
말합니다. 보통 쿼츠(Quartz)라는
투명기판 위에 극히 미세한 형상을
만들어서 사진의 필름과 같은
용도로 사용하며 사진을 찍는
방법과 유사하게 웨이퍼 위에
복잡한 패턴을 형성시켜 수 많은
반도체 소자를 만들게 됩니다.
특히 포토마스크의 정확도와 미세한
패턴 형성 능력에 따라 반도체의
품질과 반도체의 집적도가 결정되기
때문에 반도체 기술의 척도가
되기도 하는 중요한 원재료 입니다.
피케이엘은 4기가디램(4GDRAM)의 가공 회로선폭인 0.13㎛용 포토마스크 개발에 성공하여 양산체재를 갖추었으며 메모리 반도체용 120㎚ 포토마스크도 생산중입니다. 나아가 110㎚, 65㎚ 급 초미세 포토마스크 R&D에도 착수하여 연내 개발완료를 목표로 하고 있습니다. 또한 세계에서 유일하게 반도체용 포토마스크 기술과 함께 노트북이나 PDA 등에 쓰이는 TFT-LCD용 포토마스크 기술도 동시에 보유하고 있는 피케이엘은 현재 국내 전체 포토마스크 수요량의 약 65% 가량을 공급하고 있습니다.
|
