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1996년 5월 설립된 피케이엘 부설연구소는 포토마스크 제작을 위한 연구업무와 장비 개발
업무를 위한 연구팀으로 구성되어 있다.
전체 임직원의 약 20%를 차지하는 연구원들이 하루가 다르게 변모하고 있는 반도체와 LCD
기술의 발전과 시장 확대에 발맞춰 신기술 개발에 매진하고 있다.
반도체 소자의 회로 패턴이 더욱더 미세화 되어가면서 포토마스크 또한 초고해상력을 갖추기 위한
고도의 공정 기술이 요구되는 상황이다. LOGIC 및 DRAM 메이커들의 포토마스크에 대한 요구
규격은 이제 마스크제작의 한계 기술에 근접해 가는 수준에 이르러 있다.
당사 부설연구소에서는 포토마스크의 해상력 향상을 위한 위상변이마스크(PSM) 및
MPG(Multi Pass Grid)의 새로운 High Technology(32/28nm) 노광기술, 포토마스크 품질을
향상시키기 위한 건식 식각(Dry Etch) 공정기술, 포토마스크 제작에 관련된 제반 기반
기술을 개발하는데 성공하며 현재의 기술적 한계들을 하나하나 뛰어넘고 있다.
| 주요 연구개발 성과 |
- ICP dry etcher 개발
- Mask cleaner 개발
- 45/32nm technology 양산개발
- DUV PSM 개발
- 하프톤형 PSM 개발
- 28/22nm technology R&D개발
- FPD Slit Mask, HTM (Half tone) Mask 개발
- 광시야각용 대형 Mask 개발
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